Etching through silicon wafer in inductively coupled plasma

Publiceringsår

2000

Upphovspersoner

Franssila, S.; Kiihamäki, J.; Karttunen, J.

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Franssila Sami

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

MICROSYSTEM TECHNOLOGIES: MICRO-AND NANOSYSTEMS-INFORMATION STORAGE AND PROCESSING SYSTEMS

Förläggare

SPRINGER

Volym

Sidor

141-144

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej