He implantation to control B diffusion in crystalline and preamorphized Si

Publiceringsår

2008

Upphovspersoner

Bruno, Elena; Mirabella, Salvo; Priolo, Francesco; Kuitunen, Katja; Tuomisto, Filip; Slotte, Jonatan; Giannazzo, Filippo; Bongiorno, Corrado; Raineri, Vito; Napolitani, Enrico

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Tuomisto Filip

Slotte Jonatan

Kuitunen Katja

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Vacuum Science and Technology. Part B.

Förläggare

AVS Science and Technology Society

Volym

Nummer

Sidor

386-390

ISSN

1071-1023

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Öppen tillgång till publikationskanalen

Helt öppen publikationskanal

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Maskin- och produktionsteknik; Miljöteknik; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1116/1.2816927