Nickel: A very fast diffuser in silicon

Publiceringsår

2013

Upphovspersoner

Lindroos, Jeanette; Fenning, David P.; Backlund, Daniel J.; Verlage, Erik; Gorgulla, Angelika; Estreicher, Stefan K.; Savin, Hele; Buonassisi, Tonio

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Savin Hele

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Applied Physics

Förläggare

American Institute of Physics

Volym

113

Nummer

ISSN

0021-8979

Publikationsforum

59616

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Öppen tillgång till publikationskanalen

Helt öppen publikationskanal

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik; Nanoteknologi; Medicinsk bioteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1063/1.4807799