Molecular dynamics simulation of helium ion implantation into silicon and its migration

Publiceringsår

2019

Upphovspersoner

Liu, Lei; Xu, Zongwei; Li, Rongrong; Zhu, Rui; Xu, Jun; Zhao, Junlei; Wang, Chao; Nordlund, Kai; Fu, Xiu; Fang, Fengzhou

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Zhao Junlei

Nordlund Kai

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

Moderpublikationens namn

Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms

Volym

456

Sidor

53-59

ISSN

0168-583X

Publikationsforum

64245

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Parallellagringens licens

CC BY NC ND

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Nederländerna

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1016/j.nimb.2019.06.034