Electric and Magnetic Properties of Atomic Layer Deposited ZrO2-HfO2 Thin Films

Publiceringsår

2018

Upphovspersoner

Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Mikkor, Mats; Ritslaid, Peeter; Stern, Raivo; Duenas, Salvador; Castan, Helena; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Kukli Kaupo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Moderpublikationens namn

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volym

Nummer

Sidor

N117-N122

ISSN

2162-8769

Publikationsforum

75100

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Öppen tillgång till publikationskanalen

Delvis öppen publikationskanal

Licens för förläggarens version

CC BY

Parallellsparad

Parallellagringens licens

CC BY

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Kemi; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenta staterna (USA)

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1149/2.0041809jss