Atomic Layer Deposition and Performance of ZrO2-Al2O3 Thin Films

Publiceringsår

2018

Upphovspersoner

Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Castan, Helena; Duenas, Salvador; Seemen, Helina; Rähn, Mihkel; Link, Joosep; Stern, Raivo; Heikkilä, Mikko J.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Kukli Kaupo

Kemell Marianna

Leskelä Markku

Ritala Mikko

Heikkilä Mikko J.

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Moderpublikationens namn

ECS Journal of Solid State Science and Technology

Volym

Nummer

Sidor

P287-P294

ISSN

2162-8769

Publikationsforum

75100

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Öppen tillgång till publikationskanalen

Delvis öppen publikationskanal

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Kemi; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenta staterna (USA)

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1149/2.0021806jss