Atomic layer deposition and properties of ZrO2/Fe2O3 thin films
Publiceringsår
2018
Upphovspersoner
Kalam, Kristjan; Seemen, Helina; Ritslaid, Peeter; Rähn, Mihkel; Tamm, Aile; Kukli, Kaupo; Kasikov, Aarne; Link, Joosep; Stern, Raivo; Duenas, Salvador; Castan, Helena; Garcia, Hector
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Kukli Kaupo
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Volym
9
Sidor
119-128
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Helt öppen publikationskanal
Parallellsparad
Ja
Parallellagringens licens
CC BY
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi; Nanoteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Tyskland
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.3762/bjnano.9.14
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja