Patterned films by atomic layer deposition using Parafilm as a mask
Publiceringsår
2018
Upphovspersoner
Zhang, Chao; Kalliomäki, Jesse; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films
Volym
36
Nummer
1
Artikelnummer
ARTN 01B102
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi; Nanoteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Förenta staterna (USA)
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1116/1.5001033
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja