The impact of vacancy defects on CNT interconnects From statistical atomistic study to circuit simulations
Publiceringsår
2017
Upphovspersoner
Lee, Jaehyun; Berrada, Salim; Liang, Jie; Sadi, Toufik; Georgiev, Vihar P.; Todri-Sanial, Aida; Kalita, Dipankar; Ramos, Raphael; Okuno, Hanako; Dijon, Jean; Asenov, Asen
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Konferens
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A4 Artikel i en konferenspublikationPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
2017 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices, SISPAD 2017
Förläggare
Artikelnummer
8085288
Sidor
157-160
ISBN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Data- och informationsvetenskap; Medicinsk teknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.23919/SISPAD.2017.8085288
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja