Efficient surface passivation of black silicon using spatial atomic layer deposition

Publiceringsår

2017

Upphovspersoner

Heikkinen, Ismo; Repo, Päivikki; Vähänissi, Ville; Pasanen, Toni; Malinen, Ville; Savin, Hele

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Savin Hele

Repo Päivikki

Pasanen Toni

Vähänissi Ville

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Konferens

Artikelstyp

Annan artikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A4 Artikel i en konferenspublikation

Publikationskanalens uppgifter

Volym

124

Sidor

282–287

ISSN

1876-6102

Publikationsforum

70368

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Öppen tillgång till publikationskanalen

Helt öppen publikationskanal

Parallellsparad

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

DOI

10.1016/j.egypro.2017.09.300