Mechanistic details of the formation and growth of nanoscale voids in Ge under extreme conditions within an ion track

Publiceringsår

2017

Upphovspersoner

Hooda, Sonu; Avchachov, Konstantin; Khan, S. A.; Djurabekova, Flyura; Satpati, B.; Nordlund, Kai; Bernstorff, Sigrid; Ahlawat, Sarita; Kanjilal, D.; Kabiraj, D.

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Djurabekova Flyura

Nordlund Kai

Avchachov Konstantin

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Journal of Physics D: Applied Physics

Moderpublikationens namn

Journal of Physics D: Applied Physics

Volym

Nummer

Artikelnummer

225302

ISSN

0022-3727

Publikationsforum

61361

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Parallellagringens licens

CC BY NC ND

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenade kungariket

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1088/1361-6463/aa6e25