Reducing stiction in microelectromechanical systems by rough nanometer-scale films grown by atomic layer deposition
Publiceringsår
2012
Upphovspersoner
Puurunen, R. L.; Häärä, A.; Saloniemi, H.; Dekker, J.; Kainlauri, M.; Pohjonen, H.; Suni, T.; Kiihamäki, J.; Santala, E.; Leskelä, M.; Kattelus, H.
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Volym
188
Sidor
24-245
ISSN
Publikationsforum
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ingen information
Parallellsparad
Okänd
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi; Teknisk kemi, kemisk processteknik
Publiceringsland
Schweiz
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Okänd
DOI
10.1016/j.sna.2012.01.040
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja