Ambient pressure x-ray photoelectron spectroscopy setup for synchrotron-based in situ and operando atomic layer deposition research
Publiceringsår
2022
Upphovspersoner
Kokkonen, E.; Kaipio, Mikko; Nieminen, H. E.; Rehman, F.; Miikkulainen, V.; Putkonen, M.; Ritala, Mikko; Huotari, S.; Schnadt, J.; Urpelainen, S.
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal/Serie
Moderpublikationens namn
Förläggare
Volym
93
Nummer
1
Artikelnummer
013905
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Licens för förläggarens version
CC BY
Parallellsparad
Ja
Parallellagringens licens
CC BY
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi; Teknisk kemi, kemisk processteknik; Materialteknik; Nanoteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Publiceringsland
Förenta staterna (USA)
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1063/5.0076993
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja