Nucleation and Conformality of Iridium and Iridium Oxide Thin Films Grown by Atomic Layer Deposition

Publiceringsår

2016

Upphovspersoner

Mattinen, Miika; Hämäläinen, Jani; Gao, Feng; Jalkanen, Pasi; Mizohata, Kenichiro; Räisänen, Jyrki; Puurunen, Riikka L.; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisationer och upphovspersoner

Teknologiska forskningscentralen VTT Ab

Gao Feng

Puurunen Riikka

Helsingfors universitet

Hämäläinen Jani

Räisänen Jyrki

Mizohata Kenichiro

Leskelä Markku

Mattinen Miika

Ritala Mikko

Jalkanen Pasi

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Langmuir

Moderpublikationens namn

Langmuir

Volym

Nummer

Sidor

10559-10569

ISSN

0743-7463

Publikationsforum

62432

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; Materialteknik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenta staterna (USA)

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1021/acs.langmuir.6b03007