Highly Material Selective and Self-Aligned Photo-assisted Atomic Layer Deposition of Copper on Oxide Materials
Publiceringsår
2021
Upphovspersoner
Miikkulainen, Ville; Vehkamäki, Marko; Mizohata, Kenichiro; Hatanpää, Timo; Ritala, Mikko
Organisationer och upphovspersoner
Aalto-universitetet
Miikkulainen Ville 
Helsingfors universitet
Mizohata Kenichiro
Vehkamäki Marko
Ritala Mikko
Hatanpää Timo
Miikkulainen Ville
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Förläggare
Volym
8
Nummer
11
Artikelnummer
2100014
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ja
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi; Materialteknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1002/admi.202100014
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja