Characterization of ZnO/AlO <sub>x</sub>/benzene thin-film heterostructures grown through atomic layer deposition/molecular layer deposition

Publiceringsår

2020

Upphovspersoner

Krahl, Fabian; Ge, Yanling; Karppinen, Maarit

Organisationer och upphovspersoner

Aalto-universitetet

Krahl Fabian

Karppinen Maarit

Ge Yanling

Teknologiska forskningscentralen VTT Ab

Ge Yanling

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Semiconductor science and technology

Förläggare

Institute of Physics Publishing

Volym

Nummer

Artikelnummer

025012

ISSN

0268-1242

Publikationsforum

66971

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Nej

Parallellsparad

Nej

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Materialteknik; Nanoteknologi

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1088/1361-6641/abcee2