Impact of doping and silicon substrate resistivity on the blistering of atomic-layer-deposited aluminium oxide
Publiceringsår
2020
Upphovspersoner
Ott, Jennifer; Pasanen, Toni P.; Gadda, Akiko; Garin, Moises; Rosta, Kawa; Vahanissi, Ville; Savin, Hele
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Förläggare
Volym
522
Artikelnummer
146400
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Materialteknik; Nanoteknologi
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1016/j.apsusc.2020.146400
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja