undefined

WS<sub>2</sub> and MoS<sub>2</sub> thin film gas sensors with high response to NH<sub>3</sub> in air at low temperature

Publiceringsår

2019

Upphovspersoner

Järvinen, Topias; Lorite, Gabriela S.; Peräntie, Jani; Toth, Geza; Saarakkala, Simo; Virtanen, Vesa K.; Kordas, Krisztian

Abstrakt

<p>Transition metal dichalcogenides (TMDs) have received immense research interest in particular for their outstanding electrochemical and optoelectrical properties. Lately, chemical gas sensor applications of TMDs have been recognized as well owing to the low operating temperatures of devices, which is a great advantage over conventional metal oxide based sensors. In this work, we elaborate on the gas sensing properties of WS<sub>2</sub> and MoS<sub>2</sub> thin films made by simple and straightforward thermal sulfurization of sputter deposited metal films on silicon chips. The sensor response to H<sub>2</sub>, H<sub>2</sub>S, CO and NH<sub>3</sub> analytes in air at 30 °C has been assessed and both MoS<sub>2</sub> and WS<sub>2</sub> were found to have an excellent selectivity to NH<sub>3</sub> with a particularly high sensitivity of 0.10 0.02 ppm<sup>-1</sup> at sub-ppm concentrations in the case of WS<sub>2</sub>. The sensing behavior is explained on the bases of gas adsorption energies as well as carrier (hole) localization induced by the surface adsorbed moieties having reductive nature.</p>
Visa mer

Organisationer och upphovspersoner

Uleåborgs universitet

Lorite Yrjänä Gabriela Orcid -palvelun logo

Peräntie Jani Orcid -palvelun logo

Järvinen Topias

Saarakkala Simo Orcid -palvelun logo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal/Serie

Nanotechnology

Nummer

40

Artikelnummer

405501

Publikationsforum

63717

Publikationsforumsnivå

2

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Ja

Öppen tillgång till publikationskanalen

Delvis öppen publikationskanal

Parallellsparad

Ja

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi; Arkitektur; El-, automations- och telekommunikationsteknik, elektronik; Maskin- och produktionsteknik; Materialteknik

Nyckelord

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Publiceringsland

Förenade kungariket

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Nej

Sampublikation med ett företag

Nej

DOI

10.1088/1361-6528/ab2d48

Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling

Ja