Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd and TiF4 Precursors
Publiceringsår
2013
Upphovspersoner
Mäntymäki, Miia; Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Munnik, Frans; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Volym
19
Nummer
41794
Sidor
111-116
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ingen information
Parallellsparad
Okänd
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Publiceringsland
Tyskland
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Okänd
DOI
10.1002/cvde.201207026
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja