Atomic layer deposition of high-k dielectrics on carbon nanoparticles
Publiceringsår
2013
Upphovspersoner
Tamm, Aile; Peikolainen, Anna-Liisa; Kozlova, Jekaterina; Mändar, Hugo; Aidla, Aleks; Rammula, Raul; Aarik, Lauri; Roosalu, Kaspar; Lu, Jun; Hultman, Lars; Koel, Mihkel; Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Kukli Kaupo
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Volym
538
Sidor
16-20
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ingen information
Parallellsparad
Okänd
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Fysik; Kemi
Publiceringsland
Schweiz
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Okänd
DOI
10.1016/j.tsf.2012.09.071
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja