Influence of process parameters on atomic layer deposition of ZrO2 thin films from CpZr(NMe2)(3) and H2O

Publiceringsår

2014

Upphovspersoner

Aarik, Lauri; Alles, Harry; Aidla, Aleks; Kahro, Tauno; Kukli, Kaupo; Niinisto, Jaakko; Mandar, Hugo; Tamm, Aile; Rammula, Raul; Sammelselg, Vaino; Aarik, Jaan

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Niinisto Jaakko

Kukli Kaupo

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Thin Solid Films

Moderpublikationens namn

Thin Solid Films

Volym

565

Sidor

37-44

ISSN

0040-6090

Publikationsforum

68419

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Ingen information

Parallellsparad

Okänd

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Kemi

Publiceringsland

Schweiz

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag