Atomic Layer Deposition of Groups 4 and 5 Transition Metal Oxide Thin Films:Focus on Heteroleptic Precursors
Publiceringsår
2014
Upphovspersoner
Blanquart, Timothee; Niinistö, Jaakko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Volym
20
Nummer
7-9
Sidor
189-208
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
2
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ingen information
Parallellsparad
Okänd
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Publiceringsland
Tyskland
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Nej
Sampublikation med ett företag
Okänd
DOI
10.1002/cvde.201400055
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja