Conduction and stability of holmium titanium oxide thin films grown by atomic layer deposition

Publiceringsår

2015

Upphovspersoner

Castan, H.; Garcia, H.; Duenas, S.; Bailon, L.; Miranda, E.; Kukli, K.; Kemell, M.; Ritala, M.; Leskela, M.

Organisationer och upphovspersoner

Helsingfors universitet

Kukli K.

Kemell M.

Leskela M.

Ritala M.

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

Thin Solid Films

Moderpublikationens namn

Thin Solid Films

Volym

591

Sidor

55-59

ISSN

0040-6090

Publikationsforum

68419

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Ingen information

Parallellsparad

Okänd

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Fysik; Kemi

Publiceringsland

Schweiz

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag