Nucleation and Growth of the HfO2 Dielectric Layer for Graphene-Based Devices

Publiceringsår

2015

Upphovspersoner

Oh Il-Kwon, Tanskanen Jukka, Jung Hanearl, Kim Kangsik, Lee Mi Jin, Lee Zonghoon, Lee Seoung-Ki, Lee Jong-Hyun, Lee Chang Wan, Kim Kwanpyo, Kim Hyungjun, Lee Han-Bo-Ram

Organisationer och upphovspersoner

Östra Finlands universitet

Tanskanen Jukka

Publikationstyp

Publikationsform

Artikel

Moderpublikationens typ

Tidning

Artikelstyp

En originalartikel

Målgrupp

Vetenskaplig

Kollegialt utvärderad

UKM:s publikationstyp

A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskrift

Publikationskanalens uppgifter

Journal

CHEMISTRY OF MATERIALS

Volym

Nummer

Sidor

5868-5877

ISSN

0897-4756

Publikationsforum

53342

Publikationsforumsnivå

Öppen tillgång

Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst

Ingen information

Parallellsparad

Okänd

Övriga uppgifter

Vetenskapsområden

Kemi

Förlagets internationalitet

Internationell

Språk

engelska

Internationell sampublikation

Sampublikation med ett företag