Atomic layer deposition
Publiceringsår
2025
Upphovspersoner
Kessels, Erwin; Devi, Anjana; Park, Jin-Seong; Ritala, Mikko; Yanguas-Gil, Angel; Wiemer, Claudia
Organisationer och upphovspersoner
Helsingfors universitet
Ritala Mikko
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Rapport
Nej
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En översiktsartikelMålgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A2 Översiktsartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal/Serie
Moderpublikationens namn
Volym
5
Nummer
1
Artikelnummer
66
ISSN
Publikationsforum
Publikationsforumsnivå
1
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Öppen tillgång till publikationskanalen
Delvis öppen publikationskanal
Parallellsparad
Ja
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Identifierade tema
[object Object]
Publiceringsland
Förenade kungariket
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1038/s43586-025-00435-6
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja