Atomic Layer Deposition
Publiceringsår
2021
Upphovspersoner
van Ommen, J. Ruud; Goulas, Aristeidis; Puurunen, Riikka L.
Organisationer och upphovspersoner
Aalto-universitetet
Puurunen Riikka 
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Samlingsverk
Artikelstyp
Annan artikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Inte kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
B2 Del av bok eller annat samlingsverkPublikationskanalens uppgifter
Moderpublikationens namn
Förläggare
JOHN WILEY & SONS
Sidor
1-42
ISBN
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Nej
Parallellsparad
Nej
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Teknisk kemi, kemisk processteknik
Nyckelord
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Nej
DOI
10.1002/0471238961.koe00059
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja