Influence of atomic layer deposition chemistry on high-k dielectrics for charge trapping memories
Publiceringsår
2012
Upphovspersoner
Nikolaou, Nikolaos; Dimitrakis, Panagiotis; Normand, Pascal; Ioannou-Sougleridis, Vassilios; Giannakopoulos, Konstantinos; Mergia, Konstantina; Kukli, Kaupo; Niinistö, Jaakko; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisationer och upphovspersoner
Publikationstyp
Publikationsform
Artikel
Moderpublikationens typ
Tidning
Artikelstyp
En originalartikel
Målgrupp
VetenskapligKollegialt utvärderad
Kollegialt utvärderadUKM:s publikationstyp
A1 Originalartikel i en vetenskaplig tidskriftPublikationskanalens uppgifter
Journal
Moderpublikationens namn
Volym
68
Sidor
38-47
ISSN
Publikationsforum
Öppen tillgång
Öppen tillgänglighet i förläggarens tjänst
Ingen information
Parallellsparad
Okänd
Övriga uppgifter
Vetenskapsområden
Kemi
Publiceringsland
Förenade kungariket
Förlagets internationalitet
Internationell
Språk
engelska
Internationell sampublikation
Ja
Sampublikation med ett företag
Okänd
DOI
10.1016/j.sse.2011.09.016
Publikationen ingår i undervisnings- och kulturministeriets datainsamling
Ja